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離子濺射儀

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離子濺射儀

SD-900型離子濺射儀是采用二級（DC）直流濺射原理設計而成的離子濺射鍍膜設備。二極（DC）直流濺射是一種最簡單、可靠、經濟的鍍膜技術，是許多廠商提供的離子濺射儀的基礎。

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V技術規格說明

樣品倉尺寸

  φ150mm  h120mm

樣品臺

  可放置1 2 個標準SEM樣品座，高度可在
  30mm內調節

上部電極     

  靶直徑5 0 mm，厚度0 .1mm

濺射控制

  最大電流5 0mA

濺射面積

  φ5 0mm

最高真空度

  ≤4×10-2mbar

靶材

  金靶、銀靶、 鉑靶

濺射速率

  優于5nm/min (金靶）

工作電壓

  220V, 50HZ

輸出最高電壓

  -1600V


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